序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-214BOECDCK01/14 | 曝光机改造 | 1套 | 设备用途及基本要求 本设备主要用于6代半板(玻璃尺寸925*1500mm)低温多晶硅有机发光二极管柔性Touch曝光工艺。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。 | CNY3000/USD500 |
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